专利详情
本发明公开了一种垂直生长的超薄Cr2Te3单晶纳米片的制备方法:将碲源、铬源和基底放置于化学气相沉积炉中对应的温区,其中,所述基底是将多片SiO2/Si基片呈阶梯式错开叠放;加热,通入氩气和氢气作为载气进行化学气相沉积,沉积结束后,在基底上得到垂直生长的Cr2Te3单晶纳米片。本发明利用基片叠放方法控制微区气流方向,改变局域过饱和浓度,就可以制备面积大厚度薄的垂直生长的Cr2Te3单晶纳米片,解决了现有技术中难以制备垂直生长的非范德瓦尔斯二维晶体的技术难题。
交易流程
第一步:对接专利转让需求客户。
第二步:专利转让人和专利受让人签署专利转让合同。
第三步:双方准备好专利转让需要的相关文件。
第四步:将相关的文件递交给专利局。
第五步:等待专利转让结果。
过户材料
买卖双方需提供的材料 | ||
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企业或组织 | 个人 | |
受让方 | ①营业执照复印件 ②专利权转让协议 ③专利代理委托书 |
①身份证复印件(签名) ②专利权转让协议 ③专利代理委托书 |
转让方 | ①营业执照复印件 ②专利权转让协议 ③没有变更记录的专利需提供《专利请求书》 有变更记录的专利需提供《手续合格通知书》 ④下证专利需提供专利证书原件。 ⑤若有代理机构提供《解除委托代理协议》 |
①身份证复印件(空白处签名) ②专利权转让协议 ③没有变更记录的专利需提供《专利请求书》 有变更记录的专利需提供《手续合格通知书》 ④下证专利需提供专利证书 ⑤若有代理机构需提供《解除委托代理协议》 |