专利详情
本发明涉及一种具有多级相变效应的单层锌‑锡‑锑薄膜及其制备方法和应用,该薄膜由Zn和SnSb4两靶材,以SiO2/Si(100)为衬底,在氩气环境下共溅射制得,通过控制Zn和SnSb4靶材的溅射时间来调控Zn‑Sn‑Sn薄膜中掺Zn的含量,并且设定Zn的含量在40%‑50%之间,控制薄膜的总厚度为40nm‑60nm。与现有相变存储材料相比,单层锌‑锡‑锑新型相变存储材料PCRAM器件操作可以实现两次晶化(SET)过程,提升了薄膜单位面积的存储密度。
交易流程
第一步:对接专利转让需求客户。
第二步:专利转让人和专利受让人签署专利转让合同。
第三步:双方准备好专利转让需要的相关文件。
第四步:将相关的文件递交给专利局。
第五步:等待专利转让结果。
过户材料
买卖双方需提供的材料 | ||
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企业或组织 | 个人 | |
受让方 | ①营业执照复印件 ②专利权转让协议 ③专利代理委托书 |
①身份证复印件(签名) ②专利权转让协议 ③专利代理委托书 |
转让方 | ①营业执照复印件 ②专利权转让协议 ③没有变更记录的专利需提供《专利请求书》 有变更记录的专利需提供《手续合格通知书》 ④下证专利需提供专利证书原件。 ⑤若有代理机构提供《解除委托代理协议》 |
①身份证复印件(空白处签名) ②专利权转让协议 ③没有变更记录的专利需提供《专利请求书》 有变更记录的专利需提供《手续合格通知书》 ④下证专利需提供专利证书 ⑤若有代理机构需提供《解除委托代理协议》 |