一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法

专利号：201410531843.4

发布时间：2019-04-03

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一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法

专利号：201410608038.7

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一种适用于多波长的衍射光学元件设计方法

专利号：201510182055.3

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一种用于3D微结构制造的流体光刻方法

专利号：201510359485.8

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一种压电陶瓷定位的复合控制方法

专利号：201210083158.0

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一种用于光刻机的浸没控制装置

专利号：201210103398.2

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一种基于自适应技术的二维平面采样方法

专利号：201310231667.8

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一种通用多通道数据采集系统

专利号：201310279705.7

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一种基于光栅泰伯效应的检焦方法

专利号：201410500277.0

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一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法

专利号：201410479415.1

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一种有限元仿真分析中的轴承简化方法

专利号：201410539336.5

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一种掩模与基底六自由度对准装置

专利号：201410607056.3

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一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统

专利号：201510001996.2

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一种复合光栅纳米光刻自动对准系统

专利号：201510100540.1

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一种点阵激光器的双远心成像系统

专利号：201410653612.0

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一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法

专利号：201510002637.9

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一种基于紫外宽光谱泰伯自成像的光刻系统

专利号：201510758399.4

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基于紫外宽光谱自成像制备二维周期阵列的光刻方法及装置

专利号：201510770348.3

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一种基于三层结构的可调谐人工电磁材料及其制作方法

专利号：201210026732.9

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一种基于SOI和电铸技术的金属纳米线阵及其制备方法

专利号：201210027790.3

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一种实现超分辨成像功能的金属介质膜结构

专利号：200810119562.2

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可变周期多光束干涉光刻的方法

专利号：201310178623.3

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一种近眼显示光学镜头像质的评价方法

专利号：201410387944.9

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一种巯基.烯紫外光固化纳米压印材料

专利号：201310234613.7

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